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半導體激光器的驅動方式

  半導體激光器的激励方法通常多采用电流注入形式,当注入电流大于阈值电流Ith时,辐射功率随电流的增加而迅速地增大。因此,可以通过改变半導體激光器的注入电流来调整其输出的光功率。而对半導體激光器进行控制,通常采用自动控制的方法,它包括恒电流控制(ACC),恒功率控制(APC),电压恒定控制(AVC)。


  在APC工作方式下,采用光電探測器(PD)接收一小部分激光功率並轉化爲監測電流,改監測電流經過測電流經過電流/電壓轉換後,通過APC反饋網絡與設定值比較,從而形成閉環負反饋控制。當激光輸出功率受溫度等因素影響發生變化時,該負反饋可控制光功率使其穩定不變。


  AVC是特定場合下簡單而又遊泳的模式,當要求LD的驅動電壓恒定時,可以采用此模式。


  在ACC工作方式中,通過電流采樣反饋爲電流驅動單元提供有源控制,從而是電流漂流最小且使LD輸出穩定性最大,與溫度控制配合使用效果更好。


  現如今常用的半導體激光設備工作用恒流源,主要是應用了場效應管的導通特性以及晶體管的對稱連接鏡像恒流原理來實現。要得到穩定的輸出,必須使注入電流穩定,這就要采用恒流源。


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